CASシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の使用によって急速加熱や急速冷却、試験片の直接温度制御、簡便な雰囲気生成などを実現し、鉄鋼材料においていままで困難であったプロセスの熱処理シミュレーションを高精度に実現できる装置です。
薄板鋼板をはじめ厚板鋼板、ステンレス板、電磁鋼板などの汎用熱処理試験からプロセス熱処理シミュレーション試験まで対応しています。
鋼板の変態点が簡易に割り出せるCASシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の使用によって高速加熱・高速冷却、試験片の直接温度制御、簡便な雰囲気生成などを実現し、鉄鋼材料においていままで困難であったプロセスの熱処理シミュレーションを高精度に実現できる装置です。
薄板鋼板をはじめ厚板鋼板、ステンレス板、電磁鋼板などの汎用熱処理試
験からプロセス熱処理シミュレーション試験まで対応しています。
赤外線ゴールドイメージ炉使用のため、試料に対して正確な温度プログラム
ガス冷却・ミスト冷却・水冷却の冷却方式の選択が可能
露天雰囲気制御も可能
温度範囲 :100~1200℃
試料寸法: 幅70mm × 高 200mm × 厚0.2mm ~ 3.0mm
測定雰囲気: 真空中、不活性ガス中、大気中(露点制御雰囲気も可能)
アプリケーション 冷却方式:ガス、ミスト(2 流体ガス水混合)
水特殊仕様に合わせたカスタム変更可能
型式*1 | 加熱形態 | 最大加熱温度*2 | 加熱長(発光長) | ランプ電圧 | 電力 |
---|---|---|---|---|---|
E110L | 集光片面加熱 | - | 265mm | 200V | 2.0kW |
E25N | 集光管状加熱 | 1100℃ | 140mm | 100V | 2.0kW |
E25P | 1300℃ | 200V | 2.4kW | ||
E45N | 1100℃ | 100V | 4.0kW | ||
E45P | 1400℃ | 200V | 4.8kW | ||
E410N | 1100℃ | 265mm | 200V | 4.0kW | |
E410P | 1400℃ | 8.0kW | |||
VHT-E44 | 1700℃ | 100mm | 200V | 8.0kW | |
VHT-E64 | 12.0kW | ||||
VHT-E48 | 1800℃ | 225mm | 480V | 24.0kW | |
VHT-E68 | 36.0kW | ||||
P44CP | 平行光管状加熱 | 1200℃ | 100mm | 100V | 4.0kW |
P48CP | 200mm | 200V | 6.4kW | ||
P410CP | 265mm | 8.0kW | |||
P65CN | 900℃ | 140mm | 100V | 6.0kW | |
P65CP | 1200℃ | 200V | 7.2kW | ||
P610CN | 900℃ | 265mm | 6.0kW | ||
P610CP | 1200℃ | 12.0kW | |||
P810CN | 900℃ | 8.0kW | |||
P810CP | 1100℃ | 16.0kW |
赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
大小様々な対象物の加熱で研究開発や生産装置、さまざまな分野でご利用いただいてます。
太陽電池、CIGS、CZTS 用アニール
SiC パワーデバイスのアニール
金属材料の焼入、焼なまし
セラミックス材料の熱衝撃試験
ろう付用熱処理
触媒用加熱炉(ガス分析)
E型:楕円反射面を有し、焦点へ集光する(線集光)ことにより高温、高速加熱することが可能
VHT型:楕円反射面を有する超高温モデル。最高1800℃までの加熱が可能
P型:放物反射面を有し平行光により広い面積を均一に加熱することが可能
カーボンナノチューブの生成装置や生産装置まで幅広い分野でご利用
可能。平板面状放射型赤外線加熱炉はφ2in~φ300mmまでのウエハ
用アニールシステムや生産用焼成炉などにご利用頂けます。
大型ガラス基板(太陽電池、FPD等)の加熱
半導体ウエハの高温高速加熱
薄板鋼板の熱処理
Ps型は幅40mmの反射面を有し、Pss型は、幅20mmの反射面で高密度ランプ配置が可能
Ps型、Pss型ともに、反射面の数を増やすことで、幅広い面積を加熱することが可能
型式*1 | 加熱形態 | ランプ数 | 加熱長(発光長) | ランプ電圧 | 電力 |
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Ps15V | 平面放射加熱 | 1本 | 140mm | 200V | 1.2kW |
Ps110V | 265mm | 2.0kW | |||
Ps116V | 420mm | 300V | 3.0kW | ||
Ps35V | 3本 | 140mm | 200V | 3.6kW | |
Ps310V | 265mm | 6.0kW | |||
Ps316V | 420mm | 300V | 9.0kW | ||
Pss35V | 140mm | 200V | 3.6kW | ||
Pss38V | 200mm | 4.8kW | |||
Pss310V | 265mm | 6.0kW | |||
Pss316V | 420mm | 300V | 9.0kW |
熱処理目的に応じた加熱システム形成。
本装置は部材の形状とプロセス上の熱処理目的に応じて加熱炉及び
加熱システムが形成されます。
高速加熱・高速冷却、クリーン加熱を最大限活用し無公害・
省エネルギ・高機能化に適した加熱炉を提供致します。
建材用アルミニウム押出金型の高速予備加熱
金属線材の連続熱処理
金属テープ材料の圧延前後工程での連続熱処理
異種金属材料の拡散接合加熱
コーティング膜の乾燥・焼き付け加熱
ガラス基板材料の高真空中加熱
塩化ビニールパイプの軟化成型
エナメル線の乾燥、焼きなまし
カーボンナノチューブの生成炉
※仕様は熱処理の目的に対応いたします。ご相談下さい
低コストで80℃/sの高速アニールが可能。
本装置は、放物面反射赤外線ランプにより、4-6インチサイズのウエハを均一に加熱することを目的とした赤外線ランプ装置です。高速熱処理が可能で、熱処理プロセスの研究・開発用装置として手軽にご利用いただけます。個別半導体プロセスのシリサイド形成や酸化膜形成、化合物半導体のプロセスアニールが可能です。
高速加熱処理が可能
水冷メタルチャンバ式のコールドウォール構造で高速冷却が可能
真空置換後のガスフローも可能
お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が簡単に実行可能
加熱中の温度データをパソコン上に表示する事が可能
チャンバ内、汚れ防止に石英防着板取り付け可能(オプション)
9ゾーン出力制御により優れた温度分布と再現性が可能
温度範囲 | RT ~ 1100℃ |
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試料寸法 | 標準 φ6インチウエハ 1枚(φ4インチ または、φ5インチ用はオプション) |
雰囲気 | ガス中、ガスフロー中、大気中、真空中(真空排気装置はオプション) |
加熱方式 | 放物面反射赤外線ランプによる上部片面加熱方式(下部方向加熱方式も可能) |
最大加熱速度 | 80℃ /sec |
均熱精度 | ⊿t=10℃ at 800℃ hold N2中 |
制御センサ | 標準 熱電対 JIS"K"(SiCコート付カーボンサセプタに挿入方式)、パイロメータ(オプション) |
円錐形圧子を小試験片に押し当てることで、高温下で材料のクリープ
挙動を測定できます。
新たな原理に基づいたマイクロインデンテーション試験機で、従来の
ような大試料を必要としません。
一般金属材料、金属間化合物、各種有機材料のフィラー効果
単純形状、小試料から力学物性値の取得
測定領域を選び、その場所での力学物性取得
高温、高応力が容易に実現可能
測定物性 | クリープ特性値 |
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温度範囲 | 室温~800℃ |
試料寸法 | 角5mmの立方体または、Φ5㎜×長さ5mm |
測定雰囲気 | 真空中又または、不活性ガス中 |
変位測定分解能 | 0.05μm |
鉄鋼中のカーボン、窒素の定量分析。
自由減衰法により鉄鋼の内部摩擦を測定する装置です。
薄板鋼板中に含まれるカーボン、窒素のSnoek peak分離
品質管理
合金の力学的緩和現象の解析
防振合金の研究開発
簡単な操作で高精度な内部摩擦の測定が可能
内部摩擦のバックグランドが最小な試料系を採用
型式 | IFT-1500M | IFT-1500L |
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測定物性 | 内部摩擦値Q-1 | |
温度範囲 | 室温~600℃ (ヒーター能力値) | -150℃~250℃ |
試料寸法 | 巾10mm×長120mm×厚0.5~1.2mm | |
測定雰囲気 | 真空中 | 真空中、Heガス中 |